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Votre recherche pour: LEICA MICROSYSTEMS


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N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distance de travail: 11,2 mm

Description: N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distance de travail: 11,2 mm
Référence Produit: LEIM11556036
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556061

HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distance de travail: 12 mm

Description: HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distance de travail: 12 mm
Référence Produit: LEIM11556061
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556511

HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distance de travail: 12 mm

Description: HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distance de travail: 12 mm
Référence Produit: LEIM11556511
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556060

HI PLAN 4×/0,10 NA POL -/ 121; BF, POL, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distance de travail: 18 mm

Description: HI PLAN 4×/0,10 NA POL -/ 121; BF, POL, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distance de travail: 18 mm
Référence Produit: LEIM11556060
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556071

HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distance de travail: 0,92 mm

Description: HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distance de travail: 0,92 mm
Référence Produit: LEIM11556071
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Image Unavailable-LEIM30221015

Source de lumière froide

Description: Source de lumière froide
Référence Produit: LEIM30221015
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS

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Product Image-LEIM11506314

N PLAN 40×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distance de travail: 0,37 mm

Description: N PLAN 40×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distance de travail: 0,37 mm
Référence Produit: LEIM11506314
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3396

Microscope, Numérique, Leica® THUNDER imager assay package, Leica®

Description: Microscope, Numérique, Leica® THUNDER imager assay package, Leica®
Référence Produit: 630-3396
UOM: 1 * 1 SET
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3398

Microscope, Laser microdissection system, Leica®, LMD6

Description: Microscope, Laser microdissection system, Leica®, LMD6
Référence Produit: 630-3398
UOM: 1 * 1 SET
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3433

AirTeach, AirTeach software bundle for interactive microscopy class

Description: AirTeach, AirTeach software bundle for interactive microscopy class
Référence Produit: 630-3433
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3366

HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Distance de travail: 12 mm

Description: HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Distance de travail: 12 mm
Référence Produit: 630-3366
UOM: 1 * 1 Un.
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3368

HI PLAN EPI 5×/0,12 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 5×, Distance de travail: 11,7 mm

Description: HI PLAN EPI 5×/0,12 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 5×, Distance de travail: 11,7 mm
Référence Produit: 630-3368
UOM: 1 * 1 Un.
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3367

HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Distance de travail: 1,15 mm

Description: HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Distance de travail: 1,15 mm
Référence Produit: 630-3367
UOM: 1 * 1 Un.
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3370

N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Distance de travail: 0,5 mm

Description: N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Distance de travail: 0,5 mm
Référence Produit: 630-3370
UOM: 1 * 1 Un.
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3369

N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distance de travail: 0,5 mm

Description: N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distance de travail: 0,5 mm
Référence Produit: 630-3369
UOM: 1 * 1 Un.
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506413

HC PL FLUOTAR 4×/0,13 PH0, TL-BF, TL-P, TL-DF, TL-PH, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distance de travail: 17 mm

Description: HC PL FLUOTAR 4×/0,13 PH0, TL-BF, TL-P, TL-DF, TL-PH, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distance de travail: 17 mm
Référence Produit: LEIM11506413
UOM: 1 * 1 Pce
Fournisseur: LEICA MICROSYSTEMS
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